EUV-Lithografie Entwickler von Zeiss, Trumpf und Fraunhofer erhalten Deutschen Zukunftspreis

Bundespräsident Frank-Walter Steinmeier (l) ehrt bei der Online-Verleihung des Deutschen Zukunftspreises 2020 das Gewinnerteam Michael Kösters (l-r), Peter Kürz und Sergiy Yulin für die Entwicklung der EUV-Lithographie.
Stuttgart Mit dem Deutschen Zukunftspreis des Bundespräsidenten wird in diesem Jahr eine Fertigungstechnik für leistungsfähige Mikrochips gewürdigt, die etwa in Smartphones stecken können. Staatsoberhaupt Frank-Walter Steinmeier verlieh die mit 250.000 Euro dotierte Auszeichnung für Technik und Innovation am Mittwoch in Berlin an ein Team aus Baden-Württemberg und Thüringen.
Steinmeier zeichnete die Entwickler Peter Kürz (Zeiss), Michael Kösters, (Trumpf) und Sergiy Yulin (Fraunhofer-Institut in Jena) aus. Kürz und seine Mitstreiter hätten einen wesentlichen Beitrag zur Entwicklung der sogenannten EUV-Lithografie geleistet, mit der sich mikroelektronische Bauteile mit äußerst feinen Strukturen fertigen ließen, hieß es.
Die EUV-Lithografie ermöglicht beispielsweise Chips für modernste Smartphones und automatisiertes Fahren. Als weltweit führende Fertigungstechnologie stärkt sie die deutsch-europäische Position im globalen Halbleitergeschäft. Das Gewinner-Team hat einen wesentlichen Beitrag zur Entwicklung und industriellen Serienreife der EUV-Technologie geleistet, die mit über 2000 Patenten abgesichert wurde.
Die Entwicklungskosten über einen Zeitraum von 25 Jahren lagen jenseits von einer Milliarde Euro. Immer wieder mussten die Unternehmen Rückschläge und Verzögerungen hinnehmen, bis das System für die Massenproduktion stabilisiert werden konnte. Dank EUV wurden bei Zeiss und Trumpf bis heute mehr als 3300 Hochtechnologie-Arbeitsplätze geschaffen und 2019 ein Jahresumsatz von mehr als einer Milliarde Euro erwirtschaftet – Tendenz steigend.
Weltweit einziger Hersteller von EUV-Lithografie-Maschinen ist die niederländische Firma ASML. Kunden der Niederländer sind Chipgiganten wie Intel und Samsung. Schon mit der Vorgängertechnologie hatte ASML japanische Konkurrenten wie Nikon weit hinter sich gelassen. Bei EUV haben die Niederländer jetzt ein technologisches Monopol.

Die von Zeiss und seinen Partnern Trumpf und Fraunhofer entwickelte EUV-Technik wurde mit dem deutschen Zukunftspreis ausgezeichnet.
Konkurrenzlose Schlüsseltechnologie
Schlüsselkomponenten dieser Maschinen im Format eines Reisebusses sind der Hochleistungslaser von Trumpf für die EUV-Lichtquelle und das optische System von Carl Zeiss, die zusammen rund 40 Prozent der gesamten Wertschöpfung ausmachen. EUV steht für „extrem ultraviolett“, also Licht mit extrem kurzer Wellenlänge. Mit dieser konkurrenzlosen Schlüsseltechnologie lassen sich in diesem und im nächsten Jahrzehnt weitaus leistungsfähigere, energieeffizientere und kostengünstigere Mikrochips herstellen als jemals zuvor.
Heute hat bereits ein Smartphone die millionenfache Rechenpower des Computers, der 1969 die erste Mondlandung begleitete. Ermöglicht wird dies durch einen Mikrochip, der kaum größer als eine Fingerkuppe ist und auf dem sich mehr als fünfzehn Milliarden Transistoren befinden. Von der Lichtquelle über das optische System im Vakuum bis zur Oberflächenbeschichtung der dabei eingesetzten Spiegel musste praktisch die gesamte Belichtungstechnologie von Grund auf neu entwickelt werden.
„Dieser Erfolg zeigt, dass Deutschland und Europa gemeinsam technologische Souveränität erreichen können“, sagte Bundesforschungsministerin Anja Karliczek (CDU).
Der Deutsche Zukunftspreis gilt als wichtigster Innovationspreis Deutschlands. Mit ihm würdigt der Bundespräsident seit 1997 technische, ingenieurwissenschaftliche, naturwissenschaftliche, software- oder algorithmenbasierte Innovationen, die zu Wertschöpfung, Arbeitsplätzen und der Bewältigung gesellschaftlicher Herausforderungen beitragen. Der Preis wird jährlich verliehen.
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